Р. Андерсоном была предложена энергетическая диаграмма идеализированного резкого гетероперехода, в котором:
В этом случае формирование области пространственного заряда определяется соотношением работ выхода электронов из полупроводников, образующих гетеропереход [1÷3]. Энергетическая диаграмма идеального анизотипного p–N-гетероперехода представлена на рис. 5.2. Схема ее построения изображена на рис. 5.1, а, б.
|
Рис. 5.2. Энергетическая диаграмма резкого p–N-гетероперехода в модели Андерсона |
Из-за различия ширины запрещенной зоны полупроводников 1 и 2 края разрешенных зон на гетерогранице изменяются скачками. Как видно из рис. 5.2, величина скачка дна зоны проводимости равна
. |
(5.2) |
В модели Андерсона предполагается, что и – обычные энергии электронного сродства, необходимые для удаления электрона со дна зоны проводимости полупроводников 1 и 2 на уровень вакуума (т.е. на расстояние от поверхности полупроводника, большее радиуса действия сил изображения). Соотношение (5.2) получило название правила электронного сродства. Значения энергий электронного сродства в некоторых полупроводниках приведены в Приложении 1.
Величина скачка потолка валентной зоны на гетерогранице определяется выражением
. |
(5.3) |
Как следует из выражений (5.2) и (5.3), величины скачков ΔEc и ΔEv в модели Андерсона не зависят от уровня легирования p- и N- областей до тех пор, пока от легирования не зависят энергия электронного сродства и ширина запрещенной зоны.
Отношение равновесных изгибов энергетических зон в p- и N- полупроводниках в идеализированной модели гетероперехода определяется уровнями легирования и диэлектрическими проницаемостями его N- и p- областей [1,2]:
. |
(5.4) |
При этом
. |
(5.5) |
Недостатком модели Андерсона является то, что в ней для построения энергетической диаграммы гетероперехода используются только параметры контактирующих полупроводников и не учитываются специфические свойства самой гетерограницы. Кроме того, для расчетов ΔEc и ΔEv используются экспериментальные значения энергий электронного сродства и , измеренные на границах раздела полупроводник–вакуум. Такие значения не являются характеристикой объемных свойств полупроводника, а зависят также от эффектов, связанных с возникновением приповерхностного заряженного слоя, свойства которого, в свою очередь, определяются качеством поверхности и даже при наличии совершенной поверхности – ее кристаллографической ориентацией.
Следствием этого является расхождение значений ΔEc и ΔEv, рассчитываемых по формулам (5.2) и (5.3), с экспериментальными данными.