Полупро- водник  Структура зон E gΓ (300K) , эВ E gL (300K), эВ E gX (300K) , эВ Температурная зависимость ширины запрещенной зоны E g (T),эВ   χ 0 , эВ
Ge   непрямая 0,802 0,665 0,845 0,74374,774 10 4 T 2 /(T+235)   4,13
Si   непрямая - - 1,12 1,1704,73 10 4 T 2 /(T+636)   4,05
AlP   непрямая - - 2,45 2,523,18 10 4 T 2 /(T+588)   -
AlAs   непрямая 3,018 2,35 2,168 2,2396,0 10 4 T 2 /(T+408)   -
AlSb   непрямая 2,219 1,879 1,620 1,6874,97 10 4 T 2 /(T+213)   3,65
GaP   непрямая 2,78 - 2,260 2,3385,771 10 4 T 2 /(T+372)   4,0
GaAs   прямая 1,424 1,708 1,900 1,5195,405 10 4 T 2 /(T+204)   4,05
GaSb   прямая 0,722 0,799 1,030 0,8103,78 10 4 T 2 /(T+94)   4,06
InP   прямая 1,351 - 2,20 1,4213,63 10 4 T 2 /(T+162)   4,4
InAs   прямая 0,360 - 1,83 0,4202,50 10 4 T 2 /(T+75)   4,54
InSb   прямая 0,172 - - 0,2362,99 10 4 T 2 /(T+140)   4,59

 

  1. Кейси Х., Паниш М. Лазеры на гетероструктурах: В 2 т.: Пер. с англ. – М.: Мир, 1981. – Т. 1 – 229 с., Т. 2. – 364 с.
  2. Милнс А., Фойхт Д. Гетеропереходы и переходы металл-полупроводник: Пер. с англ. – М.: Мир, 1975. – 432 с.
  3. Шарма Б.Л., Пурохит Р.К. Полупроводниковые гетеропереходы: Пер. с англ. – М.: Сов. радио, 1979. – 232 с.
  4. Adachi S. GaAs, AlAs, and AlxGa1-xAs: Material parameters for use in research and device applications // J. Appl. Phys. – 1985. – V. 58, № 3. – P.R1–R29.