К настоящему времени не вызывает сомнений, что лазерная абляция с одной стороны мощный инструмент научных исследований процессов взаимодействия лазерного излучения с веществом, с другой – эффективный инструмент современных наукоемких технологий. Круг этих приложений, непрерывно растет, что связано с развитием новых лазерных систем, достижением больших мощностей и малых длительностей лазерного импульса. Применение импульсной лазерной абляции включает сварку, резку, сверление, очистку и структурирование твердых поверхностей, синтез новых наноматериалов, изготовление компонентов микроприборов, различные применения в медицине. Осаждение тонких пленок так же входит в области промышленного применения лазерной абляции. Из-за малого коэффициента использования материала мишени лазерная абляция в первую очередь применяется там, где материалы трудно нанести (испарить) другими методами, например для тугоплавких материалов. Одним из первых применений лазерной абляции было осаждение тонких пленок многокомпонентных высокотемпературных полупроводников. Сейчас абляция нашла применение при изготовлении различных элементов микро- и наноэлектроники: многослойных полупроводниковых гетероструктур, контактов, сверхрешеток, тонкопленочных сенсоров с заданной морфологией поверхности. При этом лазерная абляция может быть инструментом не только нанесения тонких пленок, но и очистки или модификации уже существующих поверхностей и покрытий с целью придания им новых функциональных свойств.
Продолжаются исследования механизмов лазерной абляции различных материалов и процесса формирования и роста пленок, которые позволят более эффективно использовать это интересное физическое явление в различных технологиях, в том числе в создании тонкопленочных функциональных материалов и покрытий с уникальными свойствами, например, сверхтвердые, наноструктурированные и т. д. Так, например, исследуется использование для нанесения покрытий «обратного» газопарового облака, сложные двухимпульсные режимы абляции при пико и наносекундом воздействии, применение фемтосекундных импульсов, позволяющих создать плотности плазмы в облаке, сравнимые с плотностью твердого тела и многократную ионизацию.